测量膜厚范围
15nm - 50um

光谱波长
400 nm- 1100 nm

主要测量透明或半透明薄膜厚度

氧化物
氮化物
光刻胶
半导体(硅，单晶硅,多晶硅等)
半导体化合物( ALGaAs, InGaAs, CdTe, CIGS等)硬涂层(碳化硅，类金刚石炭)
聚合物涂层(聚对二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺)
金属膜

特点
测量和数据分析同时进行， 可测量单层膜，多层膜，无基底和非均匀膜
包含了500多种材料的光学常数，新材料参数也可很容易地添加，支持多重算法: Cauchy，Tauc-Lorentz， Cody- Lorentz，EMA等
体积较小,方便摆放和操作
可测量薄膜厚度,材料光学常数和表面粗糙度
使用电脑操作,界面中点击，即可进行测量和分析

精度
”0. 01nm或0.01%

准确度
0.2%或1nm

稳定性
”0. 02nm或0.02%

光斑尺寸
●标准3mm, 可以小至3um

要求样品大小

●大于1mm

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